在Photronics，我们深知，与客户保持密切合作并了解其技术才能提供高品质的光掩模产品。
我们加大在研发方面的投入，确保立于光掩模技术的前沿。我们领先的电子束成像和检测工具、新型抗蚀剂和材料，以及先进的开发和干蚀刻工艺，确保您获得高级掩模所需的临界尺寸（CD）均匀性、透明覆膜和缺陷控制。
我们具备雄厚的研发投资实力，并遴选合作客户和高校，建立战略性伙伴关系和开展合作项目，进而掌握专业的技术知识，满足您当下和未来的需求。
让我们携手合作，充分利用我们的先进技术帮助您实现宏伟目标。
高传输嵌入式衰减相移掩模（EAPSMs）
我们是全球领先的生产级调谐、高传输EAPSMs的供应商，交付高分辨率和对焦深度的产品，将晶圆曝光工具的寿命扩展到更先进的技术节点。
可变孔径相移掩模（AAPSMs）
无论您需要单沟槽、三色调、三阶平台设计，甚至无铬相位光刻（CPL），我们的AAPSMs都将协助您以180相移及100%的传输率直接将图案蚀刻进硅片中，达到最高的理论k-1改进。
灰度掩模、光栅
我们在光电、薄膜磁头、灰度成像和光栅领域提供专用掩模。