在Photronics,我们深知,与客户保持密切合作并了解其技术才能提供高品质的光掩模产品。
我们加大在研发方面的投入,确保立于光掩模技术的前沿。我们领先的电子束成像和检测工具、新型抗蚀剂和材料,以及先进的开发和干蚀刻工艺,确保您获得高级掩模所需的临界尺寸(CD)均匀性、透明覆膜和缺陷控制。
我们具备雄厚的研发投资实力,并遴选合作客户和高校,建立战略性伙伴关系和开展合作项目,进而掌握专业的技术知识,满足您当下和未来的需求。
让我们携手合作,充分利用我们的先进技术帮助您实现宏伟目标。
广泛的FPD技术组合
我们采用专业尖端激光制版设备,提供高达10.5+代的掩模尺寸。我们提供的支持包括:
- 薄膜制造使用的四掩模工艺
- 源/漏层解决方案,包括:
- 双缝掩模
- 单缝掩模
- 半色调掩模
- 双层掩模(结合相移和半色调)