Von unseren bescheidenen Anfängen bis hin zum globalen Technologieführer für Fotomasken führte ein jeder Erfolg zum nächsten Erfolg. Dank der Unterstützung und dem Vertrauen unserer Kunden, dem Engagement und der Fachkompetenz unserer Mitarbeiter und der enormen Beiträge unserer Partner und Beteiligten konnten wir auf unserem Erfolgsweg einige wichtige Meilensteine verbuchen. Heute sind wir ein weltweit führender Anbieter von Technologien und Lösungen für Retikel und Fotomasken. Wir danken allen, die an unserer langen und erfolgreichen Reise teilgenommen haben, um hierher zu kommen. Besuchen Sie unsere historische Zeitleiste weiter unten.
1969
Photronic Labs, Inc. wird in Danbury, CT, USA, gegründet.
1978
Als Reaktion auf das schnelle Wachstum zieht das Unternehmen von Danbury in ein größeres Werk im benachbarten Brookfield, CT, USA, um.
1982
Das erste Elektronenstrahllithografiesystem, ein MEBES I, wird installiert.
1985
Auf dem Brookfield-Campus wird ein neues Gebäude mit einer Fläche von fast 2000 Quadratmetern errichtet, um der weiteren Expansion Rechnung zu tragen.
1987
Photronics geht an die Börse. Das Unternehmen wird an der NASDAQ unter dem Symbol PLAB gelistet.
1989
Die firmeneigenen Produktionsstätten für Fotomasken der Martin Marietta Corporation werden übernommen und in das Werk in Brookfield integriert.
1990
Photronic Labs, Inc. wird in Photronics, Inc. umbenannt Ein zweites öffentliches Public-Equity-Angebot wird abgeschlossen.
1991
Übernahme der firmeneigenen Fotomaskenfertigung von Analog Devices. Ein drittes Public-Equity-Angebot wird abgeschlossen.
1992
Die firmeneigenen Fotomaskenherstellungsbetriebe und Vermögenswerte der Unisys Corporation werden übernommen.
1993
Photronics erwirbt das Fotomaskengeschäft von Toppan Printonics (ehemals Texas Instruments Photomask Shop) und Raytheon Company.
1994
In Allen, Texas, USA, einem Vorort von Dallas, wird der erste Spatenstich vorgenommen. Der unabhängige Fotomaskenhersteller Hoya Micro Mask, Inc. wird übernommen.
1995
Pläne zur Aufnahme der Produktion in Singapur werden bekannt gegeben. Zu den Akquisitionen zählen Microphase Laboratories, Inc. und GEC Plessey Semiconductors‘ konzerneigene Fotomaskenproduktion (erster hundertprozentiger Produktionsstandort außerhalb Nordamerikas).
1996
Photronics beteiligt sich mit einer Minderheitsbeteiligung an PK Ltd. und dringt damit in den koreanischen Markt und in den Markt für Flachbildschirme ein. In Europa wird die Fotomaskenfertigung von CSEM Litomask in Neuchâtel (Schweiz) übernommen, in Manchester (England) wird der erste Spatenstich vorgenommen.
1997
Photronics erwirbt die firmeneigenen Produktionsstätten für Fotomasken von Motorola in den USA und von MZD, einem unabhängigen Hersteller von Fotomasken in Dresden.
1998
Photronics ist der erste Fotomaskenanbieter, der sich IMEC, einem in Europa ansässigen gemeinnützigen Forschungskonsortium, anschließt.
1999
Photronics und IBM gründen das Kompetenzzentrum für Lithografiemasken der nächsten Generation (NGL-MCOC).
2000
Photronics erwirbt eine Mehrheitsbeteiligung an der Precision Semiconductor Mask Corporation (PSMC), Taiwans Technologieführer für Fotomasken. PSMC wird eine Tochtergesellschaft von Photronics. Photronics und Align-Rite International, Inc. fusionieren und schaffen einen der weltweit größten und am schnellsten wachsenden strategischen Photomaskenanbieter.
2001
Mit dem MIT-Lincoln-Labor zusammen entwickelt Photronics Phasenverschiebungsphotomasken vom Typ Sub-Wavelength Reticle SolutionsTM, wodurch die Fähigkeit demonstriert wird, Sub-100-nm-Merkmale zu erzeugen. Photonics erwirbt Conexants eigenen Fotomasken-Shop.
2002
Photronics führt CyberMask™ ein, eine proprietäre Software-Suite, die eine nahtlose Schnittstelle zu Halbleiterherstellern ermöglicht, um Entwurfsdaten integrierter Schaltkreise für die Retikelherstellung zu empfangen und vorzubereiten.
2004
Das Rochester Institute of Technology und Photronics gehen eine Partnerschaft ein, um die erste Demonstration der 45-nm-Wafer-Imaging-Technologie unter Verwendung eines Immersionslithografiesystems durchzuführen.
2005
Photronics beginnt mit dem Bau einer neuen Produktionsanlage für Flachbildschirmmasken, um die FPD-Fertigungsinfrastruktur nach Taiwan zu erweitern.
2006
Photronics und Micron Technology gründen ein Joint Venture mit dem Namen MP Mask Technology Center, um Photomasken für Halbleiter der neuesten Generation zu entwickeln und herzustellen. In Boise, Idaho, USA, erfolgt die Grundsteinlegung für eine neue hochmoderne, hundertprozentig Photronics-eigene Produktionsanlage für integrierte Schaltkreise namens nanoFab.
2007
Photronics erweitert die Produktionsfähigkeit der Produktionsstätte für Flachbildschirme in Taichung, Taiwan und fügt G7.5 hinzu.
2008
Boise liefert seine erste Produktionsmaske aus.
2014
Photronics gründet mit Dai Nippon Printing ein Joint Venture von PDMC in Taiwan, um der größte Anbieter von Fotomasken im strategisch wichtigen taiwanesischen Markt zu werden.
2015
Photronics befördert Dr. Peter Kirlin zum Chief Executive Officer. Photronics schließt eine strategische Liefer- und Technologievereinbarung mit Micron Technology, Inc. ab
2016
Photronics kündigt Investitionen in Höhe von 160 Mio. USD für den Bau einer hochmodernen IC-Produktionsanlage in Xiamen, China, an.
2017
Photronics kündigt eine Investition von 160 Millionen US-Dollar für den Bau einer hochmodernen FPD-Produktionsstätte in Hefei, China, an.
2018
Photronics gründet zweites Joint Venture mit Dai Nippon Printing und erweitert die erfolgreiche IC-Partnerschaft, die 2014 in Taiwan begann, auf den gesamten Vertrieb, das Marketing und die Fertigung in China, einschließlich des Werks in Xiamen.
2019
Photronics begeht die feierliche Eröffnung zweier High-End-Produktionsstätten in China.