Wir bei Photronics wissen, dass es einer engen Zusammenarbeit und Kenntnis der Technologien unserer Kunden bedarf, um qualitativ hochwertige Fotomasken bereitzustellen.
Unser Engagement für F&E stellt sicher, dass wir auf dem neuesten Stand der Fotomasken-Technologie sind. Unsere führenden Elektronstrahlstrukturierungs- und Inspektionstools, neue Resists und Materialien sowie fortschrittliche Entwicklungs- und Trockenätzprozesse stellen sicher, dass Sie die CD-Uniformity, den Overlay und die Defektkontrolle erhalten, die für fortschrittliche Masken erforderlich sind.
Durch bedeutende F&E-Investitionen, strategische Partnerschaften und Projekte mit ausgewählten Kunden und Universitäten erhalten wir das technologische Know-how, um Ihre Anforderungen heute und in Zukunft zu erfüllen.
Lassen Sie uns gemeinsam herausfinden, wie wir unsere fortschrittlichen Technologien am besten nutzen können, um Ihre Ziele zu erreichen.
Halbtonphasenmasken (EAPSMs) mit hoher Transmission
Wir sind ein weltweit führender Hersteller für EAPSMs mit hoher Transmission für den Produktionseinsatz, die die Auflösung und Schärfentiefe verbessern und damit die Lebensdauer von Wafer-Belichtungswerkzeugen auf modernere Technologieknoten erweitern.
Alternierende Phasenmasken (AAPSMs)
Ob sie einen single trench, tri-tone, three-phased terrace design oder auch chromeless phase lithography (CPL) benötigen, unsere AAPSMs ermöglichen es die Strukturen direkt zu ätzen mit 180°-phase shift bei 100% transmission und dem höchsten k-1 improvement.
Graustufenmasken, optische Gitter
Wir bieten Spezialmasken für Bereiche wie Photonik, Dünnfilm-Schreib-Leseköpfe, Graustufenbildgebung und optische Gitter an.