Wir bei Photronics wissen, dass es einer engen Zusammenarbeit und Kenntnis der Technologien unserer Kunden bedarf, um qualitativ hochwertige Fotomasken bereitzustellen.
Unser Engagement für F&E stellt sicher, dass wir auf dem neuesten Stand der Fotomasken-Technologie sind. Unsere führenden Elektronstrahlstrukturierungs- und Inspektionstools, neue Resists und Materialien sowie fortschrittliche Entwicklungs- und Trockenätzprozesse stellen sicher, dass Sie die CD-Uniformity, den Overlay und die Defektkontrolle erhalten, die für fortschrittliche Masken erforderlich sind.
Durch bedeutende F&E-Investitionen, strategische Partnerschaften und Projekte mit ausgewählten Kunden und Universitäten erhalten wir das technologische Know-how, um Ihre Anforderungen heute und in Zukunft zu erfüllen.
Lassen Sie uns gemeinsam herausfinden, wie wir unsere fortschrittlichen Technologien am besten nutzen können, um Ihre Ziele zu erreichen.
Breites Portfolio von FPD-Technologien
Wir bieten Masken bis zur Generation 10.5+, hergestellt auf Laser-Strukturierungsgeräten der Spitzenklasse an. Unser Kundendienst umfasst:
- Four-mask process for thin-film manufacturing
- Solutions for source/drain layers, including:
- Dual-slit masks
- Single-slit masks
- Half-tone masks
- Double-layer mask (combining phase-shift and half-tone)